1、靶材
靶材(Target)是指可以通過磁控濺射、多弧離子鍍等鍍膜系統(tǒng)在適當工藝條件下濺射在基板上(玻璃、PET等)形成各種功能薄膜的濺射源。
新型顯示面板(TFT-LCD、AMOLED等)常用的靶材有:
項目 | 類別 | 材料/點 |
1、按材質(zhì)分 | 金屬靶材 | 鉬靶、鉬合金靶、鋁靶、鈦靶、銅靶 |
陶瓷靶材 | ITO靶(氧化銦錫)、IGZO靶(銦鎵鋅氧) |
2、按形狀分 | 平面靶 | 平面靶材正常濺射消耗量為35%~40% |
旋轉(zhuǎn)管靶 | 旋轉(zhuǎn)管靶正常濺射消耗量可達70%以上 |
磁控濺射系統(tǒng)在陰靶材的背后放置高斯強力磁鐵,真空室充入定量的惰性氣體(Ar) ,作為放電載體。在高壓作用下Ar原子電離成為Ar+離子和電子,產(chǎn)生等離子輝光放電,電子在加速飛向基片的過程中,受到垂直于電場的磁場影響,使電子產(chǎn)生偏轉(zhuǎn),被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi),電子以螺旋線的方式沿著靶表面前進,在運動過程中不斷與Ar 原子發(fā)生碰撞,電離出大量的Ar+離子。經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,終落在基片、真空室內(nèi)壁及靶源陽上。
2、靶材制程簡介
3.靶材綁定技術(shù)
(1)“綁定”來源于英文“bonding”的音譯,詞義為貼合或接合。靶材綁定技術(shù)指將靶材與背板進行貼合加工的工藝技術(shù)。
(2)采用釬焊技術(shù)進行靶材綁定加工,焊料為金屬銦,背板般為銅材質(zhì)。
4.接合層性能要求:
(1)良好的導(dǎo)熱性能:在磁控濺射過程中,當高能態(tài)離子高速轟擊靶材表面而激發(fā)出靶材原子或分子的同時,產(chǎn)生大量的熱量,若這些熱量不能及時地排除,靶材會迅速升溫造成靶材脫焊、靶材熔化、設(shè)備過熱等問題,嚴重時設(shè)備會出故障或報廢。靶材與背板是通過接合層連接在起的,而靶材以循環(huán)的冷卻水冷卻,以此排放靶材表面產(chǎn)生的熱量。
(2)良好的導(dǎo)電性能:在磁控濺射過程中,靶材作為陰需要與靶托之間有很好的導(dǎo)電性,否則會影響濺射率和靶材壽命。
(3)足夠的強度:結(jié)合層需要提供足夠的強度以支撐靶材的重量,確保使用過程中不“脫靶/掉靶”。
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